折射率和厚度是光学薄膜的两个非常重要的光学常数。在设计和计算光学薄膜元件的特性时，由于薄膜的光学常数是随着制 备工艺的不同而不同，因此要制备性能稳定的薄膜器件，要提高　薄膜器件生产制备的成品率，就必须精确地检测出各种各样制备工艺下的薄膜器件的光学常数。因此薄膜光学常数的测试是一个十分重要的内容。

　　椭圆偏振镜是薄膜光学参数测试的非常灵敏的方法，特别是在非透明的薄膜光学常数的测试方面。近几十年来，随着自动椭偏仪的发展和完善，椭偏光谱技术作为表征光学性质和块材以及薄膜分层结构的一种非破坏性工具已经逐渐地普及。与传统的测试手段相比，它具有非破坏性、非苛刻性、高精度和高灵敏度优点。通过椭偏反射镜测量，可以在很短的时间内得到从近紫外到近红外范围内的椭偏参数

　　ψ和Δ随波长变化的全谱。然后对ψ和Δ进行解谱，可以得到诸如介电常数、光学常数、膜层厚度和复合膜中各个成分的组分等参数。逐渐成为测量超薄膜、超晶格、多

　　层膜等各种薄膜材料的厚度和光学常数的一种重要的技术手段。椭圆偏振测量的应用范围很广泛，如半导体、光学掩膜、金属、介质薄膜、激光反射镜、大面积光学膜等都适用。椭偏法除了可以测试薄膜的基本光学常数之外，还可以用来测量薄膜的偏

　　振特性、色散特性和各项异性，有助于这方面薄膜产品的扩展开发。